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1、聚合物/無(wú)機(jī)納米復(fù)合電介質(zhì)薄膜具有優(yōu)良的力學(xué)、電學(xué)、熱學(xué)等性能,在變頻電機(jī)、電氣絕緣、燃料電池、質(zhì)子導(dǎo)電膜等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用,已經(jīng)成為材料研究領(lǐng)域的一個(gè)熱點(diǎn)。蒙脫土(MMT)為層狀結(jié)構(gòu),成分和結(jié)構(gòu)與絕緣性能優(yōu)異的云母相似,且橫向尺度較大,易引入缺陷,降低復(fù)合物電性能。二氧化鈦(TiO2)具有較高介電常數(shù)和吸收紫外線能力,片層狀MMT與顆粒狀TiO2共同摻雜到聚酰亞胺中,同時(shí)研究摻雜的MMT與TiO2質(zhì)量比對(duì)復(fù)合薄膜的性能影響,總結(jié)最優(yōu)比
2、例,為研制新型納米電介質(zhì)薄膜提供一定實(shí)驗(yàn)和理論依據(jù)。
本文設(shè)計(jì)并通過(guò)原位聚合法制備摻雜不同MMT組分的PI/(TiO2+MMT)納米復(fù)合薄膜,薄膜厚度30μm,以TiO2摻雜質(zhì)量為準(zhǔn),按以改變MMT與TiO2的摻雜質(zhì)量比的方式摻雜MMT,分為A系列(含1%TiO2)和B系列(含3%TiO2),并通過(guò)紅外光譜、掃描電鏡、介電譜儀、熱失重分析儀等測(cè)試研究MMT組分對(duì)PI/(TiO2+MMT)納米復(fù)合薄膜結(jié)構(gòu)和性能的影響,研究結(jié)果表
3、明:無(wú)機(jī)納米顆粒的添加未影響PI基體的亞胺化反應(yīng)完成,復(fù)合薄膜亞胺化反應(yīng)完全;TiO2顆粒在聚合物基體中分散均勻,MMT以片狀插層鑲嵌在聚酰亞胺基體中,與聚合物基體具有較好的相容性;隨MMT比例含量的增加,復(fù)合薄膜起始熱分解溫度升高;A系列與B系列復(fù)合薄膜低頻介電常數(shù)、介電損耗、交流電導(dǎo)率增加,B系列復(fù)合薄膜整體大于A系列;在60kV/mm電場(chǎng)下,隨MMT組分增加,A系列復(fù)合薄膜耐電暈老化壽命增加,A5(MMT/TiO2質(zhì)量比為5/1)
4、薄膜最長(zhǎng)為13h,是純PI薄膜的6.5倍。B系列復(fù)合薄膜耐電暈老化壽命隨MMT組分增加而減小,B1(MMT/TiO2質(zhì)量比為1/5)薄膜最長(zhǎng)為33h,是純PI薄膜的16.5倍,MMT與TiO2在結(jié)構(gòu)上互補(bǔ),在復(fù)合薄膜表面形成更致密的電子阻擋層,提高復(fù)合薄膜的耐電暈性能。綜合絕緣性能以及各項(xiàng)電學(xué)性能,B系列復(fù)合薄膜性能優(yōu)于A系列復(fù)合薄膜,且B1復(fù)合薄膜綜合性能最好。復(fù)合薄膜中顆粒狀粒子與片層狀粒子配比比例適當(dāng)時(shí),復(fù)合薄膜性能最優(yōu),片層狀M
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