鎳-鉻納米復(fù)合電沉積層的制備及其腐蝕行為的研究.pdf_第1頁
已閱讀1頁,還剩78頁未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡介

1、Ni-Cr納米復(fù)合鍍層是一種具有很大應(yīng)用前景的耐蝕性鍍層,決定該復(fù)合鍍層耐蝕性能的一個(gè)關(guān)鍵因素是鍍層中納米Cr的含量,如何提高鍍層中納米Cr的含量是當(dāng)前研究的熱點(diǎn)。本文通過表面分散劑的改性、傳統(tǒng)電沉積法、沉降電沉積法制備Ni-Cr納米復(fù)合鍍層,對鍍層性能進(jìn)行研究得出以下結(jié)論:
  分別利用陰離子表面分散劑(SDS)、陽離子表面分散劑(CTAB)、天然高分子表面分散劑(Arabic Gum)三種表面分散劑對納米Cr粒子進(jìn)行預(yù)處理,研

2、究其Zeta電位變化規(guī)律、沉降規(guī)律以及電鍍后鍍層中納米粒子含量的變化(EDS分析),發(fā)現(xiàn)阿拉伯膠(Arabic Gum)的添加能夠顯著提高納米粒子在水中的Zeta電位,使其懸浮穩(wěn)定性明顯提高,從而在進(jìn)行沉降實(shí)驗(yàn)時(shí)可以保持最長時(shí)間懸浮,電鍍后鍍層中能夠獲得最高的納米Cr的含量。
  相對于傳統(tǒng)電沉積(CEP),采用沉降電沉積法(SCD)在鍍液中納米Cr含量較低的情況下,就可獲得納米 Cr含量高的鍍層。通過優(yōu)化電鍍工藝參數(shù)獲得最佳工藝

3、參數(shù)鍍液中納米Cr的濃度為:20g/L,電流密度3A/dm2,攪拌速度為170rpm,pH為5.5。在鍍層中納米粒子 Cr含量相近的情況下,利用沉降電沉積法制備的鍍層更為致密、平整、耐蝕性明顯提高。.
  采用電化學(xué)測試、SEM等測試技術(shù)研究了Cr粒子的尺寸和在鍍層中的含量對鍍層表面形貌和耐蝕性能的影響,發(fā)現(xiàn)隨著復(fù)合鍍層Cr粒子尺寸的減小,鍍層耐蝕性顯著提高,隨著鍍層中Cr粒子含量的增加Ni-Cr復(fù)合鍍層的表面越平整致密,耐蝕性能

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論