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文檔簡介
1、本文分別采用了氧化還原法和化學氣相沉積法在銅金屬表面制備石墨烯薄膜,以提高銅合金的耐蝕性。運用XRD、SEM和拉曼光譜等分析了各條件下制得的石墨烯形貌和結構,使用循環(huán)伏安法、極化曲線和電化學阻抗譜測試了其抗腐蝕性能。
氧化還原法的結果表明,HI、水合肼、H2還原氧化石墨烯薄膜的效率依次降低。其中,HI去除了氧化石墨烯大部分的含氧官能團,所得膜層最薄,但降低了膜層與銅基體的結合力;H2保證了膜層的完整性,但殘留的含氧官能團較多,
2、膜層較厚,還原不充分;水合肼還原介于HI和H2兩者之間,對膜層破壞較小,研究該條件下試樣的抗腐蝕性能最有意義。對水合肼還原的石墨烯薄膜進行電化學測試,結果顯示其在一定程度上提高了銅基體的耐蝕性,但效果不顯著。
氣相沉積法的結果表明,隨著生長時間的延長,石墨烯的厚度增加,同時缺陷密度也增加。H2是該法制備石墨烯必需的氣體,它起到催化甲烷裂解和石墨烯成核的作用。極化曲線表明生長時間為7min的石墨烯薄膜耐蝕性最好,電化學阻抗圖譜顯
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