多孔硅微腔及其鑲嵌有機發(fā)光材料的光學性質研究.pdf_第1頁
已閱讀1頁,還剩48頁未讀, 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內容提供方,若內容存在侵權,請進行舉報或認領

文檔簡介

1、在該文中,我們采用電化學脈沖腐蝕方法,并在電解液中加入甘油,增強其粘度,在P型單晶硅襯底(電阻率1~20 Ω.cm)上成功地制備出高質量的多孔硅微腔.8-羥基喹啉鋁(Alq3)是一種重要的有機電致發(fā)光材料,它的發(fā)光峰也很寬,這限制了它在平面顯示等方面的應用.為了窄化Alq3的發(fā)光峰,我們將其填入多孔硅微腔中,并研究了復合膜的光學特性.第一章是多孔硅微腔的概述部分.主要講述了多孔硅微腔的發(fā)光特性、結構、制備過程.第二章介紹了樣品制備裝置和

2、測試儀器.第三章是關于多孔硅微腔制備的研究及老化對多孔硅微腔發(fā)光的影響.主要討論了三個方面.一、用電化學脈沖腐蝕法制備多孔硅微腔,優(yōu)化了實驗參數.二、利用脈沖腐蝕法,并且用甘油部分取代腐蝕液中的乙醇,來增加電解液粘度,成功地在P型單晶硅片上制備出高質量的多孔硅微腔.半高寬窄化到5.5nm,這個指標與用P+型單晶硅片制備的多孔硅微腔樣品接近,但其發(fā)光外量子效率大大提高.如果采用普通的直流腐蝕法,在電解液中加入甘油的比例不能太大,否則反應生

3、成的氫氣泡不易及時排出,造成腐蝕不均勻.三、研究了老化對多孔硅微腔的影響.老化使其發(fā)光增強,發(fā)光峰半高寬增大,峰位藍移.為了使發(fā)光穩(wěn)定,我們采用電化學氧化對新制備的多孔硅微腔進行處理,處理后發(fā)光的穩(wěn)定性有了明顯提高.第四章研究了多孔硅及其微腔鑲嵌Alq3的熒光光譜.多孔硅鑲嵌Alq3膜的熒光光譜與Alq3在乙醇溶液中的光譜類似,并且光譜的線型更加對稱.隨著嵌入的Alq3分子數增多,發(fā)光增強,峰位紅移,但是聚集程度太大時,有熒光猝滅現象發(fā)

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網頁內容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經權益所有人同意不得將文件中的內容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內容的表現方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權或不適當內容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論