2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
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文檔簡介

1、納米技術(shù)領(lǐng)航二十一世紀(jì)科技的發(fā)展,同時也是各國科學(xué)技術(shù)競爭的制高點。作為當(dāng)今世界多數(shù)國家最優(yōu)先發(fā)展的科技領(lǐng)域之一,納米科技正在不斷改變?nèi)藗兊纳a(chǎn)和生活。微納米加工技術(shù)是支撐納米科技走向應(yīng)用的基礎(chǔ)。然而,器件的微型化趨勢給傳統(tǒng)的微納加工技術(shù)帶來了巨大的挑戰(zhàn)。在改進(jìn)原有加工工藝的同時,尋求新的納米加工技術(shù)迫在眉睫。因此,開展納米加工方面的基礎(chǔ)研究,無論對于納米技術(shù)的發(fā)展,還是對于我國在新一輪科技競爭中保持有利地位,都具有十分重大而深遠(yuǎn)的意義

2、。
  研究發(fā)現(xiàn),單晶硅表面在低載下的接觸與摩擦過程中,會產(chǎn)生一系列的納米凸結(jié)構(gòu)。本文利用原子力顯微鏡,系統(tǒng)地研究了實驗參數(shù)(氣氛環(huán)境、加工載荷、循環(huán)次數(shù)、速度等)對單晶硅表面摩擦誘導(dǎo)納米凸結(jié)構(gòu)的影響規(guī)律;分別利用掃描X-射線微探針、俄歇納米探針和高分辨率透射電鏡分析了凸結(jié)構(gòu)表面化學(xué)成分和斷面微觀結(jié)構(gòu),結(jié)合在石英、玻璃表面對比實驗,揭示了單晶硅表面摩擦誘導(dǎo)納米凸結(jié)構(gòu)的產(chǎn)生機制;采用原位納米力學(xué)測試系統(tǒng)測試了單晶硅表面納米凸結(jié)構(gòu)的機

3、械性能,并提出了摩擦誘導(dǎo)納米加工的方法。所得到的主要結(jié)論如下:
  (1)首次在真空環(huán)境中觀測到單晶硅表面摩擦誘導(dǎo)納米凸結(jié)構(gòu)的形成。在原子力顯微鏡上,采用金剛石針尖加工并結(jié)合原位形貌掃描,首次在真空環(huán)境(<5.0×10-6Torr)中觀測到單晶硅表面摩擦誘導(dǎo)納米凸結(jié)構(gòu)的形成。與大氣環(huán)境相比,真空環(huán)境更有利于單晶硅表面摩擦誘導(dǎo)納米凸結(jié)構(gòu)的產(chǎn)生。
  (2)闡明了單晶硅表面摩擦誘導(dǎo)納米凸結(jié)構(gòu)的形成規(guī)律。單晶硅表面摩擦誘導(dǎo)納米凸結(jié)

4、構(gòu)在材料發(fā)生屈服破壞前產(chǎn)生,載荷增加時,則會在表面形成凹槽結(jié)構(gòu);無論在真空還是大氣環(huán)境中,單晶硅表面摩擦誘導(dǎo)納米凸結(jié)構(gòu)的高度和體積隨著載荷或循環(huán)次數(shù)的增加而增加并逐漸趨于平穩(wěn),隨著加工速度(10~1000μm/s)的增加而降低;單晶硅的晶面取向?qū)ν菇Y(jié)構(gòu)的產(chǎn)生有顯著的影響,晶面的彈性模量越高,在其表面所加工的凸結(jié)構(gòu)越低;在同樣的實驗條件下,在疏水處理、親水處理或覆有自組裝膜的單晶硅表面所產(chǎn)生的凸結(jié)構(gòu)均較原始硅表面低,這表明表面吸附的水膜或

5、表面化學(xué)膜均不利于摩擦誘導(dǎo)納米凸結(jié)構(gòu)的形成。
  (3)揭示出單晶硅表面摩擦誘導(dǎo)納米凸結(jié)構(gòu)的形成機制。采用X-射線微探針和俄歇納米探針對單晶硅表面摩擦誘導(dǎo)納米凸結(jié)構(gòu)的化學(xué)成分分析表明,單晶硅表面摩擦誘導(dǎo)納米凸結(jié)構(gòu)的形成是機械作用與氧化反應(yīng)共同作用的結(jié)果,但機械作用占主導(dǎo);高分辨率透射電鏡的分析顯示凸結(jié)構(gòu)主要是由表面非晶層及其下方晶格變形層構(gòu)成,摩擦誘導(dǎo)的非晶化是單晶硅表面納米凸結(jié)構(gòu)形成的主導(dǎo)因素。
  (4)初步建立了摩擦誘

6、導(dǎo)納米加工的方法。單晶硅和石英表面摩擦誘導(dǎo)納米凸結(jié)構(gòu)均具有與基體相近的機械性能,能夠承受微機電系統(tǒng)典型的接觸壓力,因而可以滿足微機電系統(tǒng)服役的需要。利用摩擦誘導(dǎo)的方法,通過選擇合適的載荷及針尖的運行軌跡,可以在單晶硅、石英、玻璃等材料表面加工出一系列的納米點、線、面結(jié)構(gòu),由此初步建立了摩擦誘導(dǎo)納米加工方法。
  總之,本文基于摩擦誘導(dǎo)納米凸結(jié)構(gòu)的形成及原理研究,提出了一種摩擦誘導(dǎo)納米加工的新方法。該方法無需模版,不需要施加電場,操

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