負(fù)性光敏聚酰亞胺的合成、表征與應(yīng)用.pdf

1、光敏聚酰亞胺材料在賦予普通聚酰亞胺優(yōu)異光敏性能,簡化了聚酰亞胺制備加工工藝的基礎(chǔ)上,依然保留了普通型聚酰亞胺材料原有的優(yōu)異的電絕緣性能、熱穩(wěn)定性能、化學(xué)穩(wěn)定性能、機械性能以及耐輻射性能,因而在半導(dǎo)體、機械精加工等相關(guān)領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用。本論文在前人關(guān)于光敏聚酰亞胺材料研究的基礎(chǔ)之上,系統(tǒng)的對離子型光敏聚酰亞胺以及酯型光敏聚酰亞胺的制備與性能進行了研究,具體研究內(nèi)容如下:
　　1)利用兩步法成功合成離子型光敏聚酰亞胺前驅(qū)體,并系統(tǒng)

2、分析了合成中各種因素:主鏈結(jié)構(gòu)、兩單體摩爾比、溶劑、固含量、加料順序、加料方式、反應(yīng)時間等對光敏聚酰亞胺制備的影響。該光敏聚酰亞胺前驅(qū)體體現(xiàn)了優(yōu)異的熱力學(xué)性能,抗吸濕性能,力學(xué)性能等相關(guān)性能。
　　2)對 PMDA-ODA型,BPDA-ODA型等各種主鏈結(jié)構(gòu)離子型光敏聚酰亞胺的紫外光刻工藝進行了討論與優(yōu)化,并添加了一系列的光引發(fā)劑,達到了加速離子型光敏聚酰亞胺前驅(qū)體曝光的目的。此外,對離子型光敏聚酰亞胺的電絕緣性能進行了測評,證明