2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題（含答案詳解+作文范文）_第1頁
已閱讀1頁，還剩54頁未讀， 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明：本文檔由用戶提供并上傳，收益歸屬內(nèi)容提供方，若內(nèi)容存在侵權(quán)，請進行舉報或認領(lǐng)

文檔簡介

1、隨著微電子產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，器件特征尺寸越來越小。生產(chǎn)過程中的各種污染對元器件的性能及可靠性的危害也日益突出，所以對材料表面的清潔度要求更加嚴格，因此對對微電子清洗領(lǐng)域的研究，具有很重要的意義。
　　本文詳細分析了在GLSI多層銅布線片CMP過程中銅氧化物顆粒的形成機理以及存在狀態(tài)，分析了螯合劑和表面活性劑在銅氧化物顆粒去除方面的作用。利用自主配制的主要成分為螯合劑和表面活性劑的清洗劑結(jié)合PVA刷洗法對去除CMP后Cu表面銅氧化物顆

2、粒具有良好的效果。通過AFM檢測，分析了FA/OII型螯合劑結(jié)合刷洗工藝對于表面粗糙度的影響，并采用臺階儀對不同濃度的FA/OII型螯合劑對Cu的靜態(tài)腐蝕速率進行了測試，探求清洗劑中螯合劑的合適的濃度，以免在清洗過程中由于FA/OII型螯合劑濃度過大造成粗糙度過大及銅線條的損失。
　　結(jié)合超聲或 PVA刷洗的方法分別對銅光片和銅布線片進行清洗，利用金相顯微鏡和掃描電子顯微鏡（SEM）對銅表面清洗前后的形貌進行對比，發(fā)現(xiàn)自主配制的該

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明，都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等，如果需要附件，請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙，網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預覽，若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間，僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理，對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯，并不能對任何下載內(nèi)容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當內(nèi)容，請與我們聯(lián)系，我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論