版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡(jiǎn)介
1、 本論文研究了圖形化藍(lán)寶石襯底GaN基藍(lán)光發(fā)光二極管的制備,重點(diǎn)研究了高密度圖形化藍(lán)寶石襯底的制備過程中所遇到的問題及其解決辦法。通過對(duì)電感耦合等離子體(ICP)刻蝕機(jī)理的分析,研究ICP刻蝕設(shè)備的各個(gè)參數(shù)如壓強(qiáng)、刻蝕功率、偏壓功率、氣體流量對(duì)藍(lán)寶石刻蝕過程中產(chǎn)生的影響。通過調(diào)節(jié) ICP 刻蝕參數(shù)得到不同的藍(lán)寶石與光刻膠的刻蝕選擇比,靈活修飾藍(lán)寶石的刻蝕圖形。
本論文通過分析幾種藍(lán)寶石襯底圖形形貌的制備方法,分別制作了圓
2、錐形貌、盾牌形貌、三棱錐形貌的圖形襯底,進(jìn)行了 GaN 外延生長(zhǎng)后應(yīng)用于藍(lán)光發(fā)光二極管制作。通過XRD、PL、EL 等測(cè)試分析,發(fā)現(xiàn)在所用的圖形化藍(lán)寶石襯底中,圓錐形貌圖形襯底上所制備的發(fā)光二極管光電性能最好。
本文通過對(duì)圓錐形貌的圖形襯底進(jìn)行優(yōu)化,分析了藍(lán)寶石襯底上不同圖形間距對(duì)外延生長(zhǎng)的影響,并應(yīng)用于254×584μm2的GaN基藍(lán)光發(fā)光二極管,分析其在20mA工作電流條件下正向電壓和光輸出功率的變化,在優(yōu)化參數(shù)下制得
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 圖形化SiC襯底及新型圖形化藍(lán)寶石襯底制備.pdf
- LED用圖形化藍(lán)寶石襯底的酸刻蝕行為研究.pdf
- 壓印法藍(lán)寶石納米圖形襯底的制備及評(píng)價(jià).pdf
- 高效大功率LED外延片用藍(lán)寶石圖形襯底的制備及其評(píng)價(jià).pdf
- 圖形化襯底LED芯片的技術(shù)研究.pdf
- 藍(lán)寶石襯底上增透膜
- 輻照-壓痕載荷-表面圖形化條件下藍(lán)寶石單晶性能研究.pdf
- 藍(lán)寶石襯底上制備Tl-2212薄膜.pdf
- 藍(lán)寶石襯底拋光速率的研究.pdf
- 基于圖形化襯底的石墨烯定點(diǎn)制備及應(yīng)用研究.pdf
- 藍(lán)寶石圖形襯底制備與GaN基發(fā)光二極管的γ輻照效應(yīng)研究.pdf
- 藍(lán)寶石襯底基片CMP數(shù)值模擬和實(shí)驗(yàn)研究.pdf
- 藍(lán)寶石襯底上Ga2O3薄膜的制備及性質(zhì)研究.pdf
- 藍(lán)寶石和LSAT襯底上氧化鈦薄膜的制備及性質(zhì)研究.pdf
- 藍(lán)寶石襯底上高質(zhì)量AlN材料生長(zhǎng)研究.pdf
- 照明用藍(lán)寶石襯底基片研拋技術(shù)研究.pdf
- 藍(lán)寶石襯底上SiO-,2-薄膜的制備工藝與性能研究.pdf
- 藍(lán)寶石襯底上N面GaN基異質(zhì)結(jié)構(gòu)材料研究.pdf
- 藍(lán)寶石襯底上氧化鎵薄膜的生長(zhǎng)與退火研究.pdf
- 藍(lán)寶石襯底面形特征對(duì)退火工藝的影響研究.pdf
評(píng)論
0/150
提交評(píng)論