2023年全國(guó)碩士研究生考試考研英語(yǔ)一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁(yè)
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1、石墨烯是一種二維的新型材料,具有高的載流子濃度、室溫下高的載流子遷移率、半整數(shù)量子霍爾效應(yīng)、室溫量子霍爾效應(yīng)等獨(dú)特的電學(xué)性能,在納米電子器件和新型氣敏傳感器上有良好的應(yīng)用前景。石墨烯本身對(duì)氫氣不敏感,且本征石墨烯為零帶隙材料,需要進(jìn)行元素?fù)诫s來(lái)造成一定的帶隙。因此研究者采用Pt、Pd金屬摻雜的石墨烯來(lái)制備氣敏器件,并提高其氫敏性能。
  本論文工作采用電子束蒸發(fā)沉積方法,通過(guò)優(yōu)化工藝制備較為理想的Pd、Ag沉積層。采用35mA的電

2、子束流在化學(xué)氣相沉積的銅基石墨烯表面分別沉積約1 nm、12 nm的Pd納米層,通過(guò)掃描電鏡觀察沉積層的微觀形態(tài),XPS分析沉積Pd層的化學(xué)價(jià)態(tài),研究金屬在石墨烯表面的沉積機(jī)理。工藝實(shí)驗(yàn)結(jié)合沉積層的表面微觀形貌、化學(xué)價(jià)態(tài)表明,在相同的電子束流下,沉積量較小時(shí)(1nm)在石墨烯表面形成分散的、不連續(xù)的納米顆粒,Pd易被氧化;隨著沉積量增加(12 nm),Pd納米顆粒逐漸長(zhǎng)大、連接成膜形成較致密的納米薄膜,在大氣中穩(wěn)定性較高。對(duì)沉積12 n

3、m Pd的銅基石墨烯樣品進(jìn)行XPS+Ar離子濺射深度剖析,發(fā)現(xiàn)沉積層由外到內(nèi),依次為表面無(wú)定形碳、Pd金屬層、含碳的Pd-Cu金屬界面和銅基底。Pd-Cu金屬界面的碳為石墨烯層,其主要成分為sp2雜化的碳原子,向Pd或Cu的擴(kuò)散非常小,表明在沉積過(guò)程中石墨烯具有較好的穩(wěn)定性。通過(guò)Raman光譜分析表明沉積1 nm Pd的石墨烯的D峰顯著增強(qiáng),說(shuō)明在此電子束流下蒸發(fā)的Pd原子沉積在石墨烯表面時(shí)具有一定的剩余動(dòng)能,對(duì)石墨烯的晶格造成損傷;G

4、峰、2D峰紅移,這是由于晶格錯(cuò)配,Pd沉積導(dǎo)致石墨烯在碳原子平面內(nèi)受應(yīng)力所致。因此在SiO2基石墨烯表面沉積Pd、Ag時(shí),沉積均采用對(duì)應(yīng)最小蒸發(fā)速率的電子束流進(jìn)行蒸發(fā)(Pd25 mA,Ag15 mA),沉積厚度約3 nm。
  對(duì)沉積3 nm Pd、3 nmAg前后SiO2基石墨烯進(jìn)行拉曼光譜進(jìn)行對(duì)比研究,重點(diǎn)考察石墨烯G峰、D峰和2D峰的位置和峰形變化,研究金屬沉積對(duì)石墨烯表面結(jié)構(gòu)、應(yīng)力的影響。沉積3 nmPd和Ag之后,石墨烯

5、的G峰、2D峰均被寬化,但G峰、2D峰未觀察到明顯的位移,表明沉積層金屬原子對(duì)石墨烯的摻雜效應(yīng)并不明顯。表面沉積Ag納米顆粒的樣品,其拉曼譜峰強(qiáng)度為未摻雜樣品的15倍左右,說(shuō)明納米銀沉積對(duì)石墨烯拉曼光譜有明顯的表面增強(qiáng)效應(yīng)。
  為進(jìn)一步觀察表面摻雜效應(yīng),對(duì)SiO2絕緣基底上本征石墨烯、沉積3 nm Pd金屬顆粒的石墨烯和沉積3 nm Ag金屬顆粒的石墨烯的霍爾效應(yīng)進(jìn)行測(cè)試,對(duì)比其載流子種類和濃度,結(jié)果表明沉積3nmPd后SiO2

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