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文檔簡介
1、TiAlN作為一種新型的薄膜，因為其本身具有抗氧化溫度高，導(dǎo)熱效率低，高硬度，膜基結(jié)合力好，摩擦系數(shù)小等突出的優(yōu)點，在高速切削鋼，鈦、鋁合金等材料領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。目前制備TiAlN薄膜的主流方法是多弧離子鍍技術(shù)和磁控濺射技術(shù)。然而正確的控制TiAlN薄膜中Al和Ti的比例比較困難，采用合金靶或鑲嵌靶等方法都面臨著制備一系列靶材的問題。本論文采用多弧離子鍍和磁控濺射相結(jié)合的方法在高速鋼(W18Cr4V)基體上制備了(Ti，Al)N薄膜，實現(xiàn)
2、了控制TiAlN薄膜中Al與Ti的比例目的，進而可望獲得不同Al/Ti比例的(Ti，Al)N薄膜。探討了不同工藝參數(shù)對TiAlN薄膜的表面形貌與成分，膜基結(jié)合力的影響規(guī)律。
結(jié)果表明:
1.N原子百分比為0，F(xiàn)e原子百分比為50.65時，基體表面沒有成膜。
2.當(dāng)Al+Ti/N＞2.69時，基體表面沒有形成TiAlN薄膜，在其表面形成的是金屬或金屬化合物。
3.當(dāng)0＜Al+Ti/N＜2.69時，可
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