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文檔簡介
1、首先,采用一種量子力學模型研究納米碳基場效應(yīng)管電流特性,該模型基于二維 NEGF(非平衡格林函數(shù))方程和 Poisson方程自洽全量子數(shù)值解。結(jié)合器件的工作原理,研究基于柵工程和溝道工程技術(shù)的碳基場效應(yīng)管輸運特性。其次,在器件電學特性研究的基礎(chǔ)上,將研究范圍擴展至電路,分析采用柵工程和溝道工程碳基場效應(yīng)晶體管構(gòu)建的電路性能。最后,研究場效應(yīng)晶體管柵極隧穿電流對與門電路邏輯操作的影響。
主要研究內(nèi)容如下:
(1)研究基
2、于溝道工程和柵工程技術(shù)構(gòu)建納米碳基場效應(yīng)管的輸運特性?;诙囿w量子NEGF方法,研究了異質(zhì)柵和溝道輕摻雜納米碳基器件的溝道電流特性,研究結(jié)果表明,碳基器件具有與一般場效應(yīng)管類似的共性:如柵長減小,DIBL效應(yīng)增大;柵氧厚度的減小能提高器件亞閾特性。與普通單柵相比,異質(zhì)柵結(jié)合溝道輕摻雜器件不僅具有更優(yōu)的柵控能力,能更好地抑制短溝道效應(yīng),具有更低的泄漏電流、更高的電流開關(guān)比。另外,在量子輸運模型基礎(chǔ)上,討論碳基器件載流子輸運特性,探索接近最
3、終縮小極限的器件設(shè)計理論問題,并以國際半導體技術(shù)發(fā)展指南(ITRS’10)提出的2016-2024年晶體管指標為目標參量,進行新器件結(jié)構(gòu)的工程設(shè)計優(yōu)化。
?。?)在器件電學特性的基礎(chǔ)上,基于Verilog- A查找表模型,利用HSPICE分析幾種新型結(jié)構(gòu)器件所構(gòu)建電路,包括基于異質(zhì)柵結(jié)合溝道輕摻雜 CNTFET反相器(LHCINV)和6管的靜態(tài)隨機存儲器(LHCSRAMs)的電學特性。結(jié)果表明,LHCINV具有較低的上升和下降延
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