厚氧化硅平面波導芯片中高效轉角鏡的研究.pdf

1、目前基于PLC技術的大規(guī)模密集光交換器件正處在強烈的需求中，而氧化硅波導技術又是目前最成熟最有利于批量生產(chǎn)的 PLC技術，所以帶來最低的產(chǎn)品成本。據(jù)文獻統(tǒng)計，其芯片上光學傳輸損耗及與光纖耦合損耗都最小，是科研與工程技術人員最看好的技術平臺。
　　本文系統(tǒng)分析了氧化硅波導PLC技術產(chǎn)品的優(yōu)越性與發(fā)展狀態(tài)，找出在這一平臺上實現(xiàn)大規(guī)模光網(wǎng)絡器件所面臨的固有缺陷及必須解決的關鍵問題，有力地證明了工作的必要性與意義。結合了在硅基波導平臺上對

2、薄波導刻槽的成功經(jīng)驗、低折射率波導中全反射中較大的古斯-漢欣位移和氧化硅波導刻蝕加工的工藝特點，在氧化硅厚波導上刻蝕了21微米深槽以實現(xiàn)對導模的全反射。為方便實驗測試，器件設計成了一對具有1輸入3輸出的波導轉角鏡結構，反射面大于波導界面，實驗測試結果顯示出了3個輸出光斑，與設計目標基本一致。3個反射光斑的總光損耗約為21dB，所以每個反射鏡光損耗為11dB。這一實驗現(xiàn)象與結果為進一步優(yōu)化器件結構提高反射效率奠定基礎，也為實現(xiàn)大規(guī)模PLC