浸液溫度控制建模與算法實(shí)現(xiàn).pdf

1、浸沒(méi)式光刻機(jī)是目前市場(chǎng)上最主流的高端光刻機(jī)，它通過(guò)在投影光刻機(jī)投影物鏡的最后一個(gè)鏡片與硅片之間充滿浸液來(lái)提高光刻的焦深和分辨率。浸沒(méi)式光刻機(jī)要求浸液不引入二次污染并且溫度具有高精度和高穩(wěn)定度。為了實(shí)現(xiàn)高精度和高穩(wěn)定度的浸液溫度控制，需要建立精確的浸液溫控模型和相應(yīng)的溫度控制算法。本文主要研究工作和結(jié)論如下：
　　分析了浸液溫控的技術(shù)需求和相關(guān)約束，設(shè)計(jì)了一種調(diào)節(jié)冷卻水通過(guò)熱交換器的流量控制浸液溫度穩(wěn)定性的浸液溫控原理。該原理中通過(guò)

2、引入旁路提升浸液流量、提高溫度穩(wěn)定性，通過(guò)支路直接純水泵增壓和流量伺服閥調(diào)流方式穩(wěn)定注液。
　　高精度、高穩(wěn)定性溫度控制具有時(shí)滯、多擾動(dòng)和非線性特征，為此本文提出了一種時(shí)滯補(bǔ)償，擾動(dòng)抑制的串級(jí)控制結(jié)構(gòu)，減小了時(shí)滯和環(huán)境擾動(dòng)對(duì)溫度控制穩(wěn)定性的影響，并采用“灰色”辨識(shí)方法獲得了溫控系統(tǒng)導(dǎo)前區(qū)模型參數(shù)、惰性區(qū)模型參數(shù)和環(huán)境擾動(dòng)模型。
　　基于上述模型提出了浸液溫控算法，算法主控制器采用階梯算法，副控制器采用積分分離PI算法，擾動(dòng)抑