雙模多注速調管電子光學系統(tǒng)的優(yōu)化設計.pdf

1、在單注管基礎上采用多個電子注并聯(lián)技術改進而來的多注速調管（MBK）屬于一種新型微波電真空器件，其在工作電壓、頻帶、效率、增益、體積和重量等方面比單注速調管更具技術優(yōu)勢。雙模多注速調管可根據(jù)控制極電壓的設置而工作在脈沖和連續(xù)波兩種工作模式，此類速調管高頻部分一般采用高次模的圓柱形諧振腔、同軸腔。數(shù)值計算表明，高次模諧振腔的電場能量最大位置分布在一個半徑較大的圓周上，為獲得高的駐波互作用效率，工程設計上往往將電子通道置于電場能量最大處，意味

2、著多注電子通道處于旁軸位置。此結構布局將加劇橫向磁場對注的干擾和影響。對稱聚焦磁場中心線上橫向磁場值最小，故要降低橫向磁場的不良影響，得到層流性良好的聚焦電子注，需要使聚焦場對稱中心盡量與電子注軸線重合。雙模多注速調管電子光學系統(tǒng)的設計對開展相關項目的研制及拓展空心注電子槍的使用具有重要的意義，借助現(xiàn)有的電子光學模擬軟件進行模擬仿真，是一種不錯的輔助設計方法。但從計算資源和耗時方面看，利用三維電子光學模擬軟件對整個多注電子光學系統(tǒng)進行模

3、擬和分析不是很合算，因此，將多注系統(tǒng)簡化為單注系統(tǒng)，再利用二維軟件進行模擬研究不失為一種簡便的間接設計方法。
　　本文以在研X波段75kW雙模多注速調管的電子光學系統(tǒng)為研究對象，進行實例模擬和分析，以期設計出滿足該多注速調管項目的電子光學系統(tǒng)。在設計中，首先對速調管多注電子光學系統(tǒng)提出了初步的設計方案和模擬方案，再采用TAU二維電子光學仿真軟件對所設計的三種結構類型的單注電子槍進行編程計算和對比，為電子槍選型提供了參考。利用MAX