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文檔簡介
1、低壓連續(xù)供料且能保持射流中磨?;旌暇鶆蛞呀?jīng)成為磨料射流技術(shù)的發(fā)展趨勢。現(xiàn)有的磨料射流系統(tǒng)存在高壓密封件易損壞、無法連續(xù)工作和需停泵裝砂等缺點,無法保證射流的穩(wěn)定性和連續(xù)性。磁流體推進技術(shù)具有內(nèi)部無相對運動部件,且無活動部件常出現(xiàn)的密封和磨損等優(yōu)點,因此,課題組根據(jù)現(xiàn)有磨料射流技術(shù)存在的缺陷并結(jié)合磁流體推進技術(shù)的優(yōu)勢,提出在不使用高壓泵(或增壓器)的前提下,采用正交電磁場驅(qū)動導(dǎo)電介質(zhì)并形成射流新方法。目前,相關(guān)參數(shù)對電磁場驅(qū)動導(dǎo)電介質(zhì)并形
2、成射流效果的影響尚未開展,需進一步研究與探索,由此引出本課題。論文對電磁磨料漿體射流增壓裝置設(shè)計和實驗研究,主要做了以下工作:
通過理論分析和研究水射流打擊力理論并結(jié)合流體運動研究水射流的特性,從宏觀和微觀兩個層面詳細分析電磁磨料漿體射流技術(shù)的基本原理,確定采用正交電磁場驅(qū)動導(dǎo)流介質(zhì)形成射流的可行性,分析并推導(dǎo)出導(dǎo)電介質(zhì)的速度與流體溶液的密度、電導(dǎo)率、電極板兩端的電壓等因素之間關(guān)系,對進一步開展實驗和量化實驗效果提供依據(jù)。
3、r> 論文設(shè)計的內(nèi)容主要包括整體裝置關(guān)鍵部件設(shè)計和測量調(diào)節(jié)系統(tǒng)設(shè)計,整體裝置關(guān)鍵部件主要包括臨時存儲箱、供磁體、流道、輔助架及電極板等部件設(shè)計,重點對臨時存儲箱等部件設(shè)計,并確定供磁體和電極板的選型。測量調(diào)節(jié)系統(tǒng)設(shè)計主要包括電參數(shù)測量裝置和調(diào)控裝置兩部分內(nèi)容。
論文對電磁磨料漿體射流增壓裝置進行不同實驗參數(shù)研究,通過實驗得出:飽和的NaC1溶液(濃度為26%)作為導(dǎo)電介質(zhì),導(dǎo)電介質(zhì)在磁通密度為0.7T,電源電壓為72V,極板
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