納米復合永磁材料界面結構研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、納米復合永磁材料由于可以兼具高矯頑力與高飽和磁化強度，因而具有很高的理論磁能積，在最近二十年獲得了較快的發(fā)展。其主要原因是硬軟磁相之間存在交換耦合作用，使硬磁材料的剩磁大幅度地提高。另外，納米復合永磁材料降低了稀土元素的含量，成本較為低廉，有著良好的發(fā)展前景，既可作為永磁功能器件被廣泛應用于計算機、能源、航空航天、醫(yī)療器械等諸多高新技術行業(yè)，也能制備磁記錄介質(zhì)等磁性器件?？蒲腥藛T雖然已經(jīng)獲得了一些較高性能的納米雙相復合磁體，但是與其12

2、0MGOe的理論值相比，還有著非常大的差距。這是因為在剩磁增強的同時，矯頑力下降很快，從而限制了磁能積的提高。鑒于兩相之間的交換耦合作用主要發(fā)生在界面處，本文采用在兩相之間插入非磁層的方法來研究界面結構對納米復合永磁材料磁性能的影響。
　　采用磁控濺射在MgO（110）基片上制備了不同軟磁層厚度的SmCo/Fe納米復合雙層膜。使用SQUID-VSM測得在25K和300K時的磁滯回線以及得到軟磁厚度在6~40 nm變化范圍內(nèi)的軟磁形

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