2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
已閱讀1頁,還剩113頁未讀, 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認領(lǐng)

文檔簡介

1、大口徑高分辨率空間光學(xué)系統(tǒng)是世界上的熱點研究領(lǐng)域。與歐美國家相比,我國在薄膜衍射元件的制作工藝方面還處于起步階段,距離國外先進水平有較大的差距。本文針對大口徑薄膜衍射元件制備工藝中存在的問題進行了研究,主要完成的工作包括以下幾個方面:
  1、摸索了4臺階薄膜衍射元件制備工藝。主要包括:石英母版制作、薄膜轉(zhuǎn)印兩大步驟。石英母版制備過程包括:兩次涂膠、兩次曝光顯影、兩次離子束刻蝕。薄膜轉(zhuǎn)印過程包括:溶液涂覆、高溫烘烤、冷卻分離。通過

2、對制備工藝參數(shù)的優(yōu)化,提出了一套完整的薄膜衍射元件制備工藝,可重復(fù)性好、成本較低。
  2、改善了套刻誤差。套刻誤差會嚴重影響衍射效率。高精度的商業(yè)套刻設(shè)備價格十分昂貴。為了開展小批量、實驗性的科學(xué)研究工作,進行低成本套刻工藝探索。實驗中摸索了改進型的摩爾條紋對準方法,能夠在不增加成本的前提下,將對準精度提高一倍,實現(xiàn)了套刻誤差小于0.2μm,能夠滿足最小線寬3.5μm的衍射結(jié)構(gòu)制作要求。
  3、改善了膜厚誤差。膜厚誤差嚴

3、重制約著薄膜衍射元件的成像質(zhì)量。膜厚誤差的改善可以從兩個方面入手:旋涂工藝的改善、等離子體刻蝕修正。
  通過旋涂工藝的改善,得到了膜厚峰谷值為500nm,均方根值為100nm的薄膜元件。通過等離子體刻蝕修正進一步提高膜厚均勻性,最終實現(xiàn)了膜厚峰谷值為200nm,均方根值為45nm的薄膜元件,符合光學(xué)瑞利判據(jù)的要求。
  上述膜厚誤差控制方法,是針對國外進行技術(shù)封鎖,國內(nèi)存在技術(shù)瓶頸的現(xiàn)狀,所摸索的一種可靠的方法。膜厚誤差的

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論