日光溫室嫁接黃瓜與自根黃瓜對(duì)溫度脅迫的生理應(yīng)答反應(yīng).pdf

1、溫度逆境是設(shè)施黃瓜生產(chǎn)時(shí)的一大障礙，雖然近年來對(duì)設(shè)施內(nèi)的黃瓜在逆境下的研究有很多，但是就黃瓜結(jié)果期針對(duì)根系方面的研究還甚少，本試驗(yàn)就溫度逆境下對(duì)設(shè)施內(nèi)黃瓜結(jié)果期的根系進(jìn)行了初步的研究，以期為設(shè)施內(nèi)的黃瓜生產(chǎn)提供一些理論依據(jù)。試驗(yàn)選用黑籽南瓜為嫁接砧木，測(cè)定了嫁接黃瓜根系在溫度脅迫下的反應(yīng)。高溫脅迫試驗(yàn)分為25～35℃，35～45℃，45～55℃三個(gè)處理。低溫脅迫分為3～5℃、8～12℃、15～18℃三個(gè)處理。試驗(yàn)結(jié)果表明：
　　

2、 1、高溫脅迫對(duì)根系的影響：
　　 1．1、高溫處理后，在35～45℃處理下根系酶的活性最高，其次是25～35℃，最后是45～55℃處理。
　　 1．2、高溫處理后，根系在25～35℃下所受到的膜脂過氧化的作用小于35～45℃處理，35～45℃處理小于45～55℃處理。
　　 1．3、高溫處理后，在35～45℃處理中GSI-I的活性均要高于45～55℃處理下；45～55℃處理的GSH活性小于25～35℃。

3、　　 1．4、高溫處理后，在處理的前28d 35～45℃處理下AsA含量大于25～35℃，25～35℃大于45～55℃處理。
　　 1．5、高溫處理后，與25～35℃相比35～45℃處理下根系中NR活性最高，而45～55℃處理低于對(duì)照。
　　 2、低溫脅迫對(duì)根系的影響2．1低溫處理后，嫁接黃瓜根系的酶活性高于自根黃瓜。
　　 2．1、低溫處理后，嫁接黃瓜根系細(xì)胞受到的膜脂過氧化的作用的傷害比自根黃瓜小。