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1、北方交通大學(xué)碩士學(xué)位論文非晶態(tài)SiO電子能量模擬及遷移率的研究姓名:楊勝申請學(xué)位級別:碩士專業(yè):光學(xué)指導(dǎo)教師:成正維何大偉2002.2.1AbstractAmorphousSi02isoneofthemostimportantdielectricmaterialsBecauseofitsgoodelectronacceleratingcharaemristic,amorphousSi02waswidelyus酣inthelayeredo
2、ptimizationthinfilmelectroluminescent(TFEL)devicesandotheroovelstructuredevicesaselectronaccelerationlayersSoitissignificanttostudythepr01)ertiesofelectrontransportinamorphousSi02TwomainpartswasincludedinthisthesisInthef
3、irstpartwestudytheelectronenergydistributioninamorphousSi02withMonteCarlomethod,andinthesecondpartwestudythechargelocalizationandelectronmobililtyofamorphousSiO:witharandomnetworkmodelInthesimulationofelectronenergydistr
4、ibutioninamorphousSi02thescatteringmechanismwetakeintoaccolIntarepolaropticalphorionscattering,acousticphononscattering,impactionization,andaamorphousscatteringexpressionwithasimplespheroidgausstypepotentialTheresultofsi
5、mulationasfollows:Withtheincreasingofelectricfieldstrength,theaverageenergyofelectronalsoIncreaseTheaverageenergyofelectroncanreach27eVWrllentheeleetriefieldstrengthis5MV/cmwhichshowsthatamorphousSiO,isagoodelectronaccel
6、erationmaterialAccordingtotheelectronenergydistribution,wethinkthatinordertogetgoodelectronaccelerationperformanceinTFE乙,theelectricfieldstrengthofSi02shouldbehigherthan3MV/cmInthestudyoftherandomnetworkSi02,firstlyacont
7、inuousrandomnetworktypestructuralmodelwilhperiodicboundaryconditionswasconstructed,thenwecalculatetheelectronicstn】ctureofthemodel,resultsarepresentedforthedensityofStatesandthelocalizationindexofone—electronwavefunction
8、s,aithe|asttheelectronmobilityofamorphousSiO:wasevaluatedbasedontheresultofelectronicstructureTheresultasfoltows:TheValencebandofamorphousSiO,mainlycontributedbytheoxygenatomsandtheconductionbandmainlyofferedbythesilicon
9、atomsThelocalizationoftheboRomofconductionbandislittle,howeverrelativelylargeratthetopofvalencebandThemobitityvalueestimatedis22cm2,VsincloseagreementwiththeexperimentsKeyWords:AmorphousThinfilme]ectroluminescenceEnergyd
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