高濃度氯化鑭鈰沉淀工藝對(duì)拋光粉性能的影響.pdf

1、本文以高濃度的氯化鑭鈰為原料，采用三種不同的沉淀工藝，分別通過(guò)單因素試驗(yàn)，制備了稀土總量（REO）≥45%，氯根含量（Cl-）≤0.05%的碳酸鑭鈰，得出了一些實(shí)驗(yàn)條件。通過(guò)研究沉淀料液濃度、反應(yīng)時(shí)間、晶種加入量、沉淀劑加入量四個(gè)條件的L9（43）正交實(shí)驗(yàn)，得到了三種工藝制備粒度分布均勻的碳酸鑭鈰的最佳條件。條件分別是：在相同的溫度條件下，正加料沉淀反應(yīng)時(shí)間為8h，料液濃度1.2mol/L，沉淀劑加入量分布隨時(shí)間變化先增大后減小，晶種加

2、入量為20%；單級(jí)并流沉淀反應(yīng)時(shí)間為7h，料液濃度為1.2mol/L，沉淀劑加入量分布隨時(shí)間變化逐漸增大，晶種加入量為15%；串級(jí)并流沉淀反應(yīng)時(shí)間為7h，料液濃度1.6mol/L，沉淀劑加入量方式為隨級(jí)數(shù)變化逐漸增大，晶種加入量為20%。
　　通過(guò)激光粒度儀、XRD和SEM對(duì)三種碳酸鑭鈰進(jìn)行了物相組成、粒度分布和微觀形貌分析。研究結(jié)果表明:正加料沉淀的碳酸鑭鈰中含有雜質(zhì)相，粒度分布在0～60μm之間，顆粒是由數(shù)量眾多的片狀晶組成團(tuán)

3、聚體；單級(jí)并流沉淀工藝的碳酸鑭鈰為正鹽，粒度分布在0～50μm之間，顆粒為少量塊狀晶組成的團(tuán)聚體；串級(jí)并流沉淀的碳酸鑭鈰也為正鹽，粒度分布在0～40μm之間，顆粒是由數(shù)量較少的橢球狀晶組成的團(tuán)聚體。
　　碳酸鑭鈰氟化后，用熱重儀測(cè)試了氟化碳酸鑭鈰的熱分解行為；焙燒后，用XRD、SEM、激光粒度儀、比表面儀和拋光機(jī)測(cè)試了拋光粉的物相組成、微觀形貌、物理性能和拋光性能的關(guān)系。結(jié)果表明：采用串級(jí)沉淀工藝制備的拋光粉由LaF3和CeO2組