聚離子液體修飾荷電納濾膜制備及脫鹽性能研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、印染廢水含有一定量的染料和電解質(zhì),不僅對環(huán)境造成嚴(yán)重污染,而且浪費(fèi)資源并提高印染成本,因此,對印染廢水進(jìn)行處理并回收利用其中資源具有重要的現(xiàn)實(shí)意義。針對染料廢水中所含電解質(zhì)的脫除,傳統(tǒng)納濾膜比較適宜于一價(jià)鹽和低分子量有機(jī)物的分離,而對于二價(jià)鹽與有機(jī)物的分離效果并不理想。為此,本文基于我們研究所多年的相關(guān)研究基礎(chǔ),旨在通過聚離子液體實(shí)現(xiàn)納米無機(jī)材料的荷電修飾,以共混-相轉(zhuǎn)化方法制備有機(jī)無機(jī)雜化荷正電納濾膜,期望該膜對二價(jià)陰離子具有較高透過

2、率。本文主要研究內(nèi)容及研究成果如下:
  (1)離子液體單體制備及SiO2-PIL/PES雜化荷正電納濾膜制備
  以三乙胺和烯丙基氯為原料制備了季銨型離子液體單體,采用反向原子轉(zhuǎn)移自由基聚合(RATRP)的方法在納米SiO2表面實(shí)現(xiàn)了離子液體的接枝聚合;以聚醚砜(PES)為膜材料、聚離子液體修飾的納米SiO2微粒為荷電基團(tuán)制備鑄膜液,通過共混-相轉(zhuǎn)化方法,制備了SiO2-PIL/PES有機(jī)無機(jī)雜化荷正電納濾膜,并對其進(jìn)行了

3、性能表征。結(jié)果表明,在該體系下RATRP的最佳聚合時(shí)間為24h,且反應(yīng)活性可控,聚合分子量可達(dá)2800Da,分散度為1.02。所制雜化荷正電納濾膜具有較強(qiáng)的親水性,其膜表面水接觸角達(dá)到57.5°,純水滲透性達(dá)到189.2L/(m2·h·MPa),在0.4MPa操作壓力下,膜對活性紅49和活性黑5表現(xiàn)了優(yōu)異的截留性能,其截留率分別保持在85%,90%以上;膜對電解質(zhì)尤其是二價(jià)陰離子鹽則表現(xiàn)出較好的透過性能,MgCl2、MgSO4的截留率保

4、持在10%以下,對NaCl和Na2SO4的截留率約5%以下。
  (2)HNTs-PIL/PES雜化荷正電納濾膜制備
  通過RATRP方法,在天然埃洛石納米管表面實(shí)現(xiàn)了聚離子液體的荷電修飾,從而制備了荷正電納米微粒HNTs-PIL,然后通過共混-相轉(zhuǎn)化的方法制備了HNTs-PIL/PES有機(jī)無機(jī)雜化荷正電納濾膜。結(jié)果表明,隨著HNTs-PIL的添加,雜化膜親水性隨之增強(qiáng)(膜表面水接觸角達(dá)到60.5°),雜化膜的熱穩(wěn)定性顯著

5、增加(其熱分解溫度增加20-40℃,最高達(dá)到435℃)。在0.4MPa操作壓力下,所制雜化荷正電納濾膜對活性紅49的截留率達(dá)85%,對活性黑的截留率保持在95%以上,而對MgCl2、MgSO4的截留率則在10%左右,對NaCl和Na2SO4的截留率5%左右。
  (3)HT-PIL/PES雜化荷正電納濾膜制備
  采用尿素分解、均勻共沉淀方法制備了高結(jié)晶度的鎂鋁水滑石(Mg-AlHT),對其層間的陰離子首先進(jìn)行硝酸根置換,繼

6、而以RATRP的方法對其進(jìn)行聚離子液體荷電修飾(HT-PIL)作為無機(jī)荷電納米材料。通過共混-相轉(zhuǎn)化方法制備HT-PIL/PES有機(jī)無機(jī)雜化納濾膜,并對雜化膜性能進(jìn)行了系列表征,結(jié)果表明,HT-PIL在膜溶劑N,N-二甲基乙酰胺(DMAc)中成功實(shí)現(xiàn)了原位剝離,所制備雜化膜表面水接觸角可達(dá)63.5°,機(jī)械性能和熱穩(wěn)定性也明顯增強(qiáng),在0.4MPa操作壓力下,所制雜化荷正電納濾膜對活性紅49的截留率達(dá)90%,對活性黑的截留率保持在95%以上

7、,而對MgSO4的截留率低于15%,對Na2SO4的截留率低于10%。
  聚離子液體荷電修飾的上述三種無機(jī)納米材料之空間尺寸和形貌結(jié)構(gòu)對荷正電納濾膜表皮層厚度、離子交換容量以及純水滲透性有較大影響。無機(jī)納米微??臻g尺寸越小,所制雜化膜親水性、滲透性能的提高越明顯;無機(jī)納米微粒的形貌結(jié)構(gòu)對其在膜主體中的分布有較大影響,對雜化膜的離子交換容量、滲透分離性能影響較為突出,因此,通過控制雜化膜中無機(jī)納米材料的形貌結(jié)構(gòu)和空間尺寸可以調(diào)控制

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