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1、分類號:——U D c : 一密級:—— 編號:——四磺化稀土酞菁自組裝膜的制備及性能研究P R E P A R A T I O N A N D S T U D Y O F S E L F —A S S E M B L Y F O U RS U L F O N A T E D R A R E E A R T H P H T H A L O C Y A N I N E F I L M S O NP E R F O R M A N C E學
2、位授予單位及代碼:量查堡王盍芏 I ! Q ! 豎2學科專業(yè)名稱及代碼:廑周些生 I Q S ! ! 業(yè)2研究方 向:塾能直鹽王叢盤生助型 申請學位級別:—』t ±一指導教師: 旦基擔 研 究 生: 奎拯顯論文起止時間: 2 Q 塑:! ! 二2 Q ! Q :1 2摘要首先合成了四磺化酞菁釓( G d T s ( P c ) :) 和四磺化酞菁鑭( L a T s ( P c ) :) 。通過靜電自主裝技術制備了基于不同電解
3、質的納米級多層交替結構的超薄膜,采用紫外一可見光譜儀( U V v i s ) 跟蹤組裝過程,結果說明組裝過程是有規(guī)律的,層數是可控的。原于力顯微鏡( A F m 對D A P U G d T s ( P e ) 2 ,P E I Y G d T s ( P c ) 2 ,p E l /L a T s ( P c ) 2 ,D A I U L a T s ( P c ) 2 自組裝膜的形貌進行表征,膜的表面光滑平整,填滿了球形納米級顆粒
4、。分別制備了D A R /G d T s ( P c ) ,,D A R /L a T s ( P c ) :修飾玻碳電極;研究了D A R /G d T s ( P c ) :,D A R /L a T s ( P c ) :修飾電極對抗壞血酸,亞硝酸鈉的催化性能,采用計時電流法測定了抗壞血酸,亞硝酸鈉在電極表面膜中的擴散系數,計算求得其擴散系數分別為27 ×1 05 c 一/s .1 l ×1 0 5 c 一/s
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