超薄Al膜和AlN薄膜的光學(xué)性質(zhì)及相關(guān)問題的研究.pdf

1、鋁及鋁的化合物具有許多優(yōu)良的性質(zhì)。超薄鋁膜由于其特殊的的光學(xué)性質(zhì)，在光學(xué)多層膜上有廣泛應(yīng)用。氮化鋁薄膜化學(xué)穩(wěn)定性高、熱傳導(dǎo)率高、機械強度高、電絕緣性能佳、高能隙、熱膨脹系數(shù)低，光學(xué)特性優(yōu)良，可以用作大功率的紫外光學(xué)器件的散熱材料。 采用直流磁控濺射法濺射純度為99.999％的鋁靶制備了超薄鋁膜。然后利用雙光束分光光度計測定了其透光率，研究了透光性能與各制備條件之間的關(guān)系，發(fā)現(xiàn)，隨著工作氣壓、基片溫度、靶基距的增大，薄膜的透光率有

2、不同程度的增大；但透光率隨著濺射時間的增加而呈近線性下降。據(jù)此獲得了制備光學(xué)超薄鋁膜的最佳條件。AFM分析表明，獲得的超薄鋁膜具有較好的表面平整度。 氮化鋁薄膜樣品是利用高純鋁靶，在氮氣加氬氣氣氛下用直流和射頻反應(yīng)磁控濺射法制備的。對其透光率和導(dǎo)熱率進行了測量。發(fā)現(xiàn)，隨著工作壓強的升高、靶距的增加，薄膜的透光率上升；基片溫度的升高在非晶襯底上會導(dǎo)致樣品透光率的下降；而氮氣濃度和濺射時間對薄膜的透光率影響不大。并進一步得出了制備高

3、透光率氮化鋁薄膜的最佳工藝條件。X射線衍射結(jié)果表明氮化鋁薄膜具有 (100) 和(110)面擇優(yōu)取向。XPS分析表明，薄膜中氮化鋁的純度隨著基片溫度的升高而增加。AFM分析也證實較高的基片溫度有利于濺射粒子的擴散，薄膜表面粗糙度減小。 本文選擇了有代表性的三個點研究了LED燈的升溫曲線。通過在LED上的模擬實驗研究了導(dǎo)熱涂層對LED燈的升溫曲線的影響。發(fā)現(xiàn)在LED集成電路板上加入導(dǎo)熱涂層能提高LED的散熱效率，高導(dǎo)熱率的導(dǎo)熱涂層