版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶(hù)提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡(jiǎn)介
1、伴隨著尺度的減小,薄膜材料表現(xiàn)出越來(lái)越多體材料中沒(méi)有體現(xiàn)的物理性質(zhì),這些性質(zhì)和伴隨而生的現(xiàn)象的原因及其應(yīng)用吸引了越來(lái)越廣泛的關(guān)注。半個(gè)世紀(jì)以來(lái),半金屬(semimetal)鉍(Bi)由于具有極低的載流子濃度、極小的載流子有效質(zhì)量、相對(duì)較大的費(fèi)米波長(zhǎng),一直被作為研究量子輸運(yùn)效應(yīng)(quantum transport)、有限尺寸效應(yīng)(finite size effect)的重要材料。對(duì)其薄膜的特殊能帶結(jié)構(gòu)、奇特的輸運(yùn)性質(zhì),一直不斷地有新的認(rèn)識(shí)
2、。但是至今,圍繞鉍薄膜的諸多奇異特性,仍有很多疑問(wèn)和爭(zhēng)辯,它們的來(lái)源仍不完全為人們所知。本論文的主要工作是對(duì)單晶鉍薄膜的生長(zhǎng)與輸運(yùn)性質(zhì)進(jìn)行了研究與分析。此外,還設(shè)計(jì)了一套超高真空原位輸運(yùn)系統(tǒng)。主要內(nèi)容如下:
1.使用分子束外延的方法在氟化鋇(111)表面生長(zhǎng)了單晶鉍(Bi)的薄膜。通過(guò)原位的RHEED和北京同步輻射裝置的掠入射X射線(xiàn)衍射(Grazingangle XRD),觀察到隨著薄膜厚度的增長(zhǎng),它的結(jié)構(gòu)從多晶準(zhǔn)立方相過(guò)渡到
3、了單晶六角相,并且我們確定了鉍薄膜在氟化鋇(111)襯底上的不同生長(zhǎng)階段。此外,在電導(dǎo)測(cè)量中也同樣觀察到了這種轉(zhuǎn)變,與RHEED和XRD的結(jié)果一致。
2.通過(guò)研究不同厚度、不同溫度下鉍的輸運(yùn)性質(zhì),證明了即使有金屬性的表面態(tài)存在,在鉍薄膜的體內(nèi)仍然存在半導(dǎo)體相,為長(zhǎng)久以來(lái)的爭(zhēng)論給出了確定的回答。此外,我們還定出了鉍從半金屬轉(zhuǎn)變?yōu)榘雽?dǎo)體的轉(zhuǎn)變點(diǎn)。
3.在了解了鉍薄膜的輸運(yùn)性質(zhì)是由金屬表面態(tài)和薄膜內(nèi)部的半導(dǎo)體共同參與所組成
4、的之后。建立模型,通過(guò)定量的結(jié)果證實(shí)了鉍薄膜的電導(dǎo)和霍爾效應(yīng)中隨厚度、溫度的特殊變化關(guān)系是源于表面態(tài)和體內(nèi)此消彼長(zhǎng)的競(jìng)爭(zhēng)。對(duì)這些被廣泛觀察卻沒(méi)有被很好理解的現(xiàn)象作出了合理的解釋。
4.我們通過(guò)研究鉍薄膜在低溫強(qiáng)磁場(chǎng)下的Shubnikov-de Haas振蕩,證實(shí)在鉍薄膜中并不能觀察到理論估計(jì)的周期,表面態(tài)的Shubnikov-de Haas振蕩并不能用來(lái)解釋Quantum limit之外的峰值。
5.設(shè)計(jì)了超高真空原
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶(hù)所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶(hù)上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶(hù)上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶(hù)因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 釩酸鉍薄膜的合成和性質(zhì)研究.pdf
- 半金屬鉍薄膜的生長(zhǎng)及其性質(zhì)研究.pdf
- 摻雜鈦酸鉍薄膜的鐵電與光學(xué)性質(zhì).pdf
- 鉍層狀共生結(jié)構(gòu)鐵電薄膜的制備與性能研究.pdf
- 鐵酸鉍薄膜結(jié)構(gòu)和性能研究.pdf
- 單晶鈷薄膜與多晶鉍薄膜中的自旋輸運(yùn)研究.pdf
- 硅基薄膜的結(jié)構(gòu)與光學(xué)性質(zhì).pdf
- 摻雜及異質(zhì)結(jié)構(gòu)對(duì)鐵酸鉍薄膜結(jié)構(gòu)與性能影響研究.pdf
- 單晶鈷薄膜與多晶鉍薄膜中的自旋輸運(yùn)研究
- 鐵酸鉍薄膜的電性能與疇結(jié)構(gòu)研究.pdf
- 摻釤鐵酸鉍粉體和薄膜的結(jié)構(gòu)與性能.pdf
- ZnO薄膜的結(jié)構(gòu)和光學(xué)性質(zhì)研究.pdf
- ZnO及其摻雜薄膜結(jié)構(gòu)與性質(zhì)研究.pdf
- 41431.硅納米晶體及鐵酸鉍薄膜的光學(xué)性質(zhì)研究
- 高度取向鈦鐵酸鉍鉍層結(jié)構(gòu)鐵電薄膜的磁控濺射制備及其性能研究.pdf
- 鉍基焦綠石鈮酸鉍鎂材料結(jié)構(gòu)及薄膜的介電性能研究.pdf
- Cr摻雜ZnO薄膜的結(jié)構(gòu)和性質(zhì)研究.pdf
- 氧化鎵異質(zhì)外延薄膜結(jié)構(gòu)與性質(zhì)的關(guān)系研究.pdf
- 含鉛鉍的過(guò)渡金屬化合物的結(jié)構(gòu)與磁電性質(zhì)研究.pdf
- MFS結(jié)構(gòu)器件用鈦酸鉍鈮鐵電薄膜制備與性能研究.pdf
評(píng)論
0/150
提交評(píng)論