Cu-AAO納米有序陣列復合結構的光學特性研究.pdf

1、本文闡述了近年來國內外在金屬/介質納米復合結構制備及其物性研究方面的現(xiàn)狀，評述了人們采用多孔氧化鋁(AAO)模板制備納米有序陣列復合結構的工藝和光學特性方面的研究成果。主要內容如下： 1.近一步優(yōu)化了制備高度有序AAO模板的制備工藝，通過調整制備AAO模板的電化學工藝參數群，可使AAO模板的結構參數在很大范圍內可控。 2.研究了不同電解液中制備的AAO薄膜的光致發(fā)光特性及發(fā)光機理，發(fā)現(xiàn)在硫酸和草酸電解液中制備的AAO薄膜

2、均在350～600nm范圍內出現(xiàn)了較強的光致發(fā)光帶，而在磷酸電解液中制備的AAO薄膜在該范圍內沒有出現(xiàn)明顯的光致發(fā)光帶.對其發(fā)光機理分析認為，硫酸電解液中制備的AAO薄膜的峰位為405nm的發(fā)光源于F+中心，峰位為455nm的發(fā)光可能是由F中心引起的，也可能是由其它因素引起的.草酸電解液中制備的AAO薄膜的峰位為420nm的發(fā)光與F+中心有一定的相關性，峰位為470nm的發(fā)光主要源于與草酸根離子有關的發(fā)光基團。 3.將Cu納米粒