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文檔簡介
1、反滲透設(shè)備反滲透設(shè)備運行中的故障分析運行中的故障分析隨著電子及醫(yī)藥產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展,水處理技術(shù)也在實際應(yīng)用中不斷完善,尤其是膜處理技術(shù)已有相當(dāng)完整的理論基礎(chǔ)并且經(jīng)過了長期的實踐檢驗。反滲透系統(tǒng)是水處理中極為關(guān)鍵的一道程序,它具有設(shè)備精密、運行壓力高的特點。該系統(tǒng)的運行狀況將直接影響到最終出水水質(zhì),故做好反滲透系統(tǒng)的調(diào)試工作顯得尤為重要。我們可以從以下幾個方面來掌握:一、運行條件反滲透系統(tǒng)由反滲透膜(RO)、高壓泵及為保護(hù)反滲透膜而設(shè)置的保
2、安過濾器組成。保安過濾器內(nèi)裝有過濾孔徑為5μm的濾芯。這些濾芯會過濾掉任何尺寸大于5μm的顆粒。對下游RO膜起到保護(hù)作用,否則RO膜表面極易結(jié)垢。目前較常用的滲透膜類別為聚酰胺膜,膜型式為卷式復(fù)合膜,該種型式的膜的除鹽率可達(dá)99.5%。由于RO膜易受水中PH值、余氯及水溫的影響,故RO膜運行前對進(jìn)水水質(zhì)有嚴(yán)格要求:PH值:3~10余氯值:0.1mgLSDI15值:5.0水溫:45℃以上任一指標(biāo)超出范圍,均有可能使?jié)B透膜產(chǎn)生變形,從而影響
3、出水水質(zhì)和縮短膜的使用壽命。并且膜的種類不同對進(jìn)水水質(zhì)要求也有所不同。在調(diào)試前可以根據(jù)RO膜廠家提供的說明進(jìn)行確認(rèn)。二、運行前準(zhǔn)備RO作為高壓運行設(shè)備,在運行前為保護(hù)設(shè)備及儀表和安全起見,應(yīng)嚴(yán)格安照操作程序確認(rèn)并調(diào)整好閥門的開啟狀態(tài),具體操作如下:1、完全打開保安過濾器進(jìn)水閥門和打開高壓泵進(jìn)水閥門2、打開高壓泵出水閥門一圈3、打開RO入口閥一圈4、將濃水管上針閥旋轉(zhuǎn)三圈半5、完全打開產(chǎn)水出口閥及濃水出口閥6、將所有取樣閥和清洗閥門關(guān)閉7
4、、將所有壓力顯示閥打開至半開狀態(tài)清洗何種污染物以及如何清洗要根據(jù)現(xiàn)場污染情況而進(jìn)行。對于幾種污染同時存在的復(fù)雜情況,清洗方法是采用低PH和高PH的清洗液交替清洗(應(yīng)先低PH后高PH值清洗)。2污染情況分析碳酸鈣垢:碳酸鈣垢是一種礦物結(jié)垢。當(dāng)阻垢劑分散劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障時,或是加酸pH調(diào)節(jié)系統(tǒng)出故障而引起給水pH增高時,碳酸鈣垢有可能沉積出來。盡早地檢測碳酸鈣垢,對于防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的。早期檢測出的碳酸鈣垢可由降
5、低給水的pH值至3~5,運行1~2小時的方法去除。對于沉積時間長的碳酸鈣垢,可用低pH值的檸檬酸溶液清洗去除。硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢:硫酸鹽垢是比碳酸鈣垢硬很多的礦物質(zhì)垢,且不易去除。硫酸鹽垢可在阻垢劑分散劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障或加硫酸調(diào)節(jié)pH時沉積出來。海德能公司認(rèn)為盡早地檢測硫酸鹽垢對于防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的。硫酸鋇和硫酸鍶垢較難去除,因為它們幾乎在所有的清洗溶液中難以溶解,所以,應(yīng)加以特別的注意以防止此類結(jié)垢的
6、生成。金屬氧化物氫氧化物污染:典型的金屬氧化物和金屬氫氧化物污染為鐵、鋅、錳、銅、鋁等。這種垢的形成導(dǎo)因可能是裝置管路、容器(罐槽)的腐蝕產(chǎn)物,或是空氣中氧化的金屬離子、氯、臭氧、鉀、高錳酸鹽,或是由在預(yù)處理過濾系統(tǒng)中使用鐵或鋁助凝劑所致。聚合硅垢:硅凝膠層垢由溶解性硅的過飽和態(tài)及聚合物所致,且非常難以去除。需要注意的是,這種硅的污染不同于硅膠體物的污染。硅膠體物污染可能是由與金屬氫氧化物締合或是與有機(jī)物締合而造成的。硅垢的去除很艱難,
7、可采用傳統(tǒng)的化學(xué)清洗方法。如果傳統(tǒng)的方法不能解決這種垢的去除問題,請與海德能公司技術(shù)部門聯(lián)系?,F(xiàn)有的化學(xué)清洗藥劑,如氟化氫銨,已在一些項目上得到了成功的使用,但使用時須考慮此方法的操作危害和對設(shè)備的損壞,加以防護(hù)措施。膠體污染:膠體是懸浮在水中的無機(jī)物或是有機(jī)與無機(jī)混合物的顆粒,它不會由于自身重力而沉淀。膠體物通常含有以下一個或多個主要組份,如:鐵、鋁、硅、硫或有機(jī)物。非溶性的天然有機(jī)物污染(NOM):非溶性天然有機(jī)物污染(NOM——N
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