新型多功能集成光路器件(MIOC).pdf

1、集成光學研究的是平面光學器件和平面光學系統(tǒng)的理論、技術(shù)與應用，其理論基礎是導波光學，技術(shù)基礎是薄膜技術(shù)和微電子技術(shù)。隨著第二和第三代光纖陀螺的發(fā)展，大大地促進了多功能集成光路器件的發(fā)展和應用。
　　由于LiNbO3材料具有良好的電光效應、較短的電光響應時間和高透射率特性，因而適宜制作低損耗導波器件的襯底材料，應用前景廣闊。本文基于 LiNbO3襯底材料，從參數(shù)理論設計和工藝設計方面介紹了一種用于干涉型光纖陀螺（IFOG）信號處理的

2、新型多功能集成光路器件(MIOC)的研制工作。器件的工作波長為1.3 m?，集分束器、合束器、起偏器/檢偏器、相位調(diào)制器、波導吸收器等十三個功能單元于一體，除了單 Y多功能集成光路器件具備的功能外，它還具有拍頻檢測功能，因而對提高慣導級和高精度穩(wěn)瞄系統(tǒng)起著重要的作用，并直接影響著穩(wěn)瞄系統(tǒng)的高機動性、抗沖擊力和過載能力的提高。它的成功研制為多功能集成光路器件的深入研究，提出了一種新的思路。
　　該器件是相位調(diào)制、強度調(diào)制和定向耦合器

3、理論綜合應用的典型，文章從理論上分析了LiNbO3光波導的特點、制作工藝、電極設計原理、SiO2介質(zhì)緩沖層對器件性能的影響和抽頭功率的設計原理等。為了實現(xiàn)低的半波電壓、高的偏振消光比、低尾纖串音、低插入損耗、精確的抽頭功率比和良好的分束比，我們對器件結(jié)構(gòu)進行了優(yōu)化設計。文章簡要介紹了器件制作的具體過程，包括一些關(guān)鍵技術(shù)，如制作光波導的質(zhì)子交換退火法（APE），電極的制作、緩沖層的制作、抑制背向反射的方法及光纖與芯片的耦合技術(shù)等。最后對器

4、件樣品的技術(shù)參數(shù)進行了測試，并對可靠性進行了分析，提出了今后的改進措施。
　　最后在器件制作完成后，對性能參數(shù)進行了測試和分析。測試結(jié)果表明，器件的各項指標完全滿足設計要求：插入損耗?8.0dB，分束比優(yōu)于50:50(?3％)，尾纖偏振串音?-30.0dB，三組相位調(diào)制器的半波電壓 V??4.5V、9.0V、12.0V，背向反射?-50 dB，抽頭功率比處于0.8%～1.2%之間。器件各項參數(shù)指標達到國外同類產(chǎn)品20世紀90年代初