低溫等離子體技術在高分子材料表面改性中的應用研究.pdf

1、低溫等離子體是靠氣體輝光放電產(chǎn)生的電離氣體，形成低溫氣體等離子體方法很多，常用方法有直接輝光放電、射頻輝光放電、微波輝光放電等。 低溫等離子體改善材料表面性能的機理可粗略認為：在低溫等離子體反應室內(nèi)，低壓工作氣體中的電子在電場加速作用下，由于電子碰撞及派生離子、原子的碰撞使氣體電離，從而產(chǎn)生低溫等離子體。 聚四氟乙烯高頻微波多層印制電路板的孔金屬化制造，其最大的難點是化學沉銅前的活化前處理，也是最為關鍵的一步。在低溫等離

2、子體技術未被應用前，印制電路板制造業(yè)界，主要是依賴于各類化學處理溶液，對需進行表面金屬沉積的部分進行活化改性處理。而低溫等離子體改性是一種干式工藝，無需進行廢液的處理，且作用時間短，效率高，改性只發(fā)生在表面層，因而不影響基體固有性能。 本課題于2000年開始研究以等離子體處理法取代原有的化學溶液對聚四氟乙烯、聚酰亞氨等高分子材料表面進行改性處理。研制出國內(nèi)首臺工程化的低溫等離子體處理設備，本論文對低溫等離子體處理設備的設計作了較