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1、本文采用高純鋁箔作為鋁陽(yáng)極氧化的陰極。研究了電流密度、氧化時(shí)間、電解液濃度和溫度等工藝參數(shù)對(duì)氧化膜電化學(xué)性能的影響,通過(guò)分析鋁陽(yáng)極氧化膜表面的顯微結(jié)構(gòu)形貌,在結(jié)合氧化膜在1mol/LNaCl溶液中極化曲線的測(cè)試結(jié)果,探討了各工藝參數(shù)條件下形成的鋁氧化膜耐蝕性差異的微觀機(jī)制。結(jié)果表明,在溫度為25~30℃、氧化時(shí)間為60min、電流密度為20mA/cm2、硫酸濃度為200g/L的工藝條件下形成的氧化膜均勻性好、耐腐蝕性強(qiáng)。同時(shí),對(duì)其在充放
2、電電流為1mA,0.15mol/L(NH4)2SO4溶液中測(cè)試充放電,結(jié)果顯示,材料的循環(huán)性能良好,比電容可達(dá)101μF/cm2,并且經(jīng)500次循環(huán)后比電容仍保持為循環(huán)前的84.2%,循環(huán)使用壽命好。
進(jìn)一步對(duì)照研究了陽(yáng)極氧化前后鋁基片作為陰極的沉積實(shí)驗(yàn),實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,未進(jìn)行陽(yáng)極氧化的鋁基片由于自身不具備催化活性和鋁基材與一些氧化物的熱膨脹系數(shù)差異大,使得沉積層不能與鋁基體很好的結(jié)合在一起,經(jīng)加熱后沉積層基本上都從鋁表面脫落;
3、而鋁箔陽(yáng)極氧化后形成氧化膜后再電沉積,沉積層能與基體很好的結(jié)合在一起,經(jīng)加熱后沉積層不脫落,仍保持較好的結(jié)合力。
最后,分析了沉積層表面顯微結(jié)構(gòu)形貌,測(cè)試了沉積后材料的恒電流充放電曲線,討論了各工藝參數(shù)對(duì)材料比電容的影響。結(jié)果表明,在未添加硫脲時(shí),比電容最大可達(dá)106μF/cm2,比未進(jìn)行電化學(xué)沉積時(shí)的比電容提高了4%;在加入1g硫脲后,比電容可達(dá)125μF/cm2,比未添加硫脲時(shí)增大了17.9%,而比未進(jìn)行電化學(xué)沉積時(shí)的比電
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