ITO導(dǎo)電玻璃化學(xué)鍍鎳及鍍鎳層的性能研究.pdf

1、由于ITO(氧化銦錫)透明導(dǎo)電薄膜特殊的光學(xué)性能和電學(xué)性能,被廣泛用于觸摸屏、顯示器、有機(jī)發(fā)光二極管以及太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域中,帶來(lái)巨大的經(jīng)濟(jì)效益。其在應(yīng)用當(dāng)中,有些ITO線路需要進(jìn)行局部金屬化,在其表面鍍上一層鎳,鎳層的質(zhì)量至關(guān)重要,需要對(duì)鍍鎳工藝及配方進(jìn)行研究。本文主要研究化學(xué)沉積法對(duì)ITO導(dǎo)電玻璃進(jìn)行選擇性金屬化和磁控濺射法在ITO面上鍍鎳的研究。目前化學(xué)鍍鎳廣泛的應(yīng)用于航天、化工、電子、鋼鐵防腐等行業(yè),全世界科研工作者對(duì)化學(xué)鍍鎳也做

2、了廣泛的研究,但針對(duì)于ITO導(dǎo)電玻璃上選擇性化學(xué)鍍鎳的研究還比較少。
　　關(guān)于ITO表面金屬化,本論文分別從鍍鎳液的配方、鍍鎳工藝以及鍍前處理等多方面系統(tǒng)的進(jìn)行了研究,并將化學(xué)沉積法所得鍍鎳層與磁控濺射法得到的鍍鎳層進(jìn)行對(duì)比。在鍍鎳液配方設(shè)計(jì)過(guò)程中,結(jié)合ITO的特性,通過(guò)多次試驗(yàn),綜合考慮,確定了鍍鎳液配方。通過(guò)實(shí)驗(yàn)結(jié)果對(duì)比,確定了以過(guò)二硫酸鉀為酸性刻蝕液,刻蝕液溫度為30℃,刻蝕時(shí)間為2~4min,刻蝕效果良好。
　　在傳

3、統(tǒng)敏化活化鍍鎳步驟中,發(fā)現(xiàn)氯化亞錫不可用于敏化液中,氯化亞錫的加入將導(dǎo)致施鍍過(guò)程中鎳原子沒(méi)有選擇性的沉積在玻璃面上,用亞銅離子代替亞錫離子應(yīng)用于敏化液中,解決了氯化亞錫帶來(lái)的無(wú)選擇性問(wèn)題。本次實(shí)驗(yàn)中還創(chuàng)新的提出無(wú)敏化鍍鎳法,即省去了敏化步驟,依次經(jīng)過(guò)催化、活化、還原,這種方法配制出來(lái)的鍍前處理液穩(wěn)定,可長(zhǎng)時(shí)間使用。最后用磁控濺射的方法制備鎳層,并與化學(xué)鍍鎳層進(jìn)行對(duì)比。
　　通過(guò)外觀目測(cè)、劃格附著力測(cè)定法、掃描電子顯微鏡觀測(cè)法對(duì)鍍鎳