8mm頻率合成器技術(shù)研究.pdf

1、現(xiàn)代科技飛速進(jìn)步,對(duì)頻率綜合器低相噪、捷跳頻、低雜散、小型化等高性能指標(biāo)的追求也越來(lái)越強(qiáng)烈,本文基于這些研究熱點(diǎn)對(duì)8mm頻率合成器進(jìn)行了研究探索。
　　本文分析了常用的頻率合成理論,首先基于DS+DDS的合成方案實(shí)現(xiàn)了X波段掃頻源,其可輸出中心頻率11.75GHz,相鄰頻點(diǎn)跳頻時(shí)間僅8ns,帶寬75MHz~250MHz可調(diào),掃頻時(shí)間2~20ms可調(diào)的掃描信號(hào),在相噪、頻率分辨率、跳頻時(shí)間及雜散抑制等指標(biāo)都有優(yōu)越表現(xiàn),不足的是體積較

2、大,且輸出帶寬較窄。
　　根據(jù)上述結(jié)果,DS+DDS方案不適于實(shí)現(xiàn)較寬帶輸出的8mm頻率源,因此考慮在設(shè)計(jì)中引入 PLL,首先設(shè)計(jì)鎖相環(huán)電路并驗(yàn)證了在環(huán)路參數(shù)合適情況下跳頻500MHz所需優(yōu)于10微秒,達(dá)到項(xiàng)目預(yù)定指標(biāo),然后據(jù)此提出改進(jìn)的 DDS+PLL方案,通過(guò)PLL代替多級(jí)倍頻放大濾波實(shí)現(xiàn)尺寸的減小,并利用環(huán)路內(nèi)置混頻的方式降低分頻比,減少鎖相環(huán)路對(duì)相位噪聲與雜散抑制度的惡化。最后根據(jù)改進(jìn)方案對(duì)實(shí)現(xiàn)了8mm頻率合成器的電路實(shí)現(xiàn)

3、、調(diào)試及測(cè)試。
　　根據(jù)測(cè)試結(jié)果,本文成功實(shí)現(xiàn)了8mm頻率合成器,其輸出頻率33.9~36GHz;相位噪聲優(yōu)于-90.47dBc/Hz@1kHz,-99.46dBc/Hz@10kHz;雜散抑制度優(yōu)于46dBc;輸出功率約為0dBm;頻率分辨率優(yōu)于53Hz;跳頻時(shí)間小于7微秒(33.9GHz跳頻至36GHz)。
　　在技術(shù)指標(biāo)實(shí)現(xiàn)的基礎(chǔ)上,本文進(jìn)一步基于 LTCC技術(shù)對(duì)關(guān)鍵電路模塊實(shí)現(xiàn)了小型化探索,LTCC化后的電路基板尺寸相